低溫等離子設(shè)備技術(shù)應(yīng)用范圍廣，氣體的流速和濃度對于氣態(tài)污染物治理技術(shù)應(yīng)用來說是兩個重要的因素。生物過濾和燃燒技術(shù)能應(yīng)用于較高濃度范圍，但卻受氣體的流速所限；電子束照射技術(shù)有一很窄的氣體流速范圍。而低溫等離子體技術(shù)對氣體的流速和濃度都有一個很寬的應(yīng)用范圍，其應(yīng)用廣泛不言而喻。

 

低溫等離子設(shè)備去除污染物的原理：

低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成沒毒無害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev ，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得很快速。作為環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項(xiàng)具有很強(qiáng)潛在優(yōu)勢的高新技術(shù)，等離子體受到了國內(nèi)外相關(guān)學(xué)科界的高度關(guān)注。

低溫等離子設(shè)備去除污染物的機(jī)理：

等離子體化學(xué)反應(yīng)過程中，等離子體傳遞化學(xué)能量的反應(yīng)過程中能量的傳遞大致如下：

(1) 電場＋電子→高能電子

(2) 高能電子＋分子(或原子)→(受激原子、受激基團(tuán)、游離基團(tuán)) 活性基團(tuán)

(3) 活性基團(tuán)＋分子(原子)→生成物+熱

(4) 活性基團(tuán)＋活性基團(tuán)→生成物+熱

低溫等離子設(shè)備可應(yīng)用在電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，手機(jī)屏幕的表面處理；國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。通過處理，可以使塑料具有阻隔性、金屬具備抗腐蝕能力，或者玻璃具備抗臟污能力。素材經(jīng)過處理以后，涂裝或者印刷的品質(zhì)_，質(zhì)量更穩(wěn)定，耐久性更長。低溫等離子設(shè)備，可以使用戶特定的加工過程，成為效率高的、經(jīng)濟(jì)的、環(huán)保的加工工藝。